萝卜的主要栽培技术（萝卜栽培技术要点）

1、露地栽培

　　（1）整地。春萝卜生长期短，宜选疏松、肥沃、保水、保肥的土壤或沙质土壤，亩施入优质圈肥2500~3000千克，深翻耙平，做宽1.2-1.5米、长20厘米左右平畦准备播种，如埔情不好，可提前浇水造摘。

　　（2）播种。为防止春化抽苔，要求土深10厘米的地温稳定在8℃以上，夜间最低温度5℃以上时开始播种，一般于4月上中旬撒播或按15厘米左右行距开沟条播，播种量以每亩撤播1.0-1.5千克，条播0.75-1.0千克为宜，播种后覆土0.5-1.0厘米，然后轻轻镇压，使种子与土壤充分接触，有利于种子吸水，提高种子出苗率。

　　（3）苗期管理。出苗后，于破心时进行第一次间苗，苗距2-3厘米，2-3片真叶时进行第二次间苗，并定苗，苗距10~15厘米，间苗时注意拔除病苗、弱苗及杂草，留下壮苗。苗期应少浇水，多中耕，一般于幼苗长出两片真叶，定苗后和4~5片叶时各中耕一次，叶片盖满畦面后停止中耕，以免损伤叶片及肉质根。

　　（4）肥水管理。春萝卜生长前期地温低，尽量晚浇水，多中耕，提温保境，促进根系发育，当土深10厘米地温稳定在15℃左右时，可浇一次小水，仍以中耕为主，肉质根膨大期，温度渐高，应及时供水，保持地面湿润，既利肉质根膨大，又可防糠心。追肥可于定苗后亩施氮、磷、钾复合肥12-20千克，以后每隔10-15天追施一次。

　　（5）适时收获。肉质根充分膨大后应及时收获，否则易发生糠心和老化。

2、保护地栽培

　　早春严寒季节，利用保护地栽培萝卜，可使萝卜提早供应市场。保护地栽培主要采用地膜覆盖，阳畦，中小拱棚及日光温室等形式。

　　（1）地膜栽培。能保湿增温，成本较低，不仅增产，而且早熟。地膜栽培有条播法和穴播法两种。

　　①条播法。按15厘米左右行距开播种沟，播后立即覆膜，出苗后按一定株距（10-15厘米）破膜，孔径5-6厘米。

　　②穴播法。播前覆膜，晒2-3天，按15厘米×15厘米株行距在膜上挖直径7-8厘米孔穴，穴中播种。

　　地膜覆盖栽培播期可比露地栽培提前7-10天，但管理略不同，地膜覆盖不需中耕除草，浇水、施肥都在穴孔进行，比露地少浇2-3次水，追肥量减少1/5-1/4..

　　（2）中小棚及日光温室

　　①播种。中小拱棚以1月下旬至2月上旬播种为宜，日光温室12月下旬至2月上旬均可播种，播种选晴天进行，方法与露地栽培相同，播完后，盖好地膜，夜间加盖草苫。

　　②播种后管理。以播后15天左右，子叶展开，真叶显露，可选晴天中午间苗，苗距8-12厘米。保护地内湿度大，一般苗期无须浇水，“破肚”时用喷壶浇小水，肉质根膨大盛期，可结合施肥浇一次水，亩施复合肥20-25千克。播种后一般不通风，幼苗出齐后25℃以上棚温时开小缝通风，下午棚温降至25℃以下，应关闭通风口。随着天气逐渐变暖，放风时间可延长，通风口加大，使棚温保持在18℃~22℃。

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