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2025-10-04 01:44 作者:李先生
在无土栽培西瓜的过程中,营养液温度的调控是关键。西瓜根系的适宜生长温度为18~23℃,若温度持续低于13℃或高于28℃,将不利于根系发展。特别是在温室栽培环境下,营养液温度过低是一个常见问题。为解决这一问题,可以采取电热水器等加温措施,确保液温处于根系生长的理想范围。此外,采用砂砾盆栽或槽栽方法时,应该将栽培容器置于地面以上,并且维持温室内适宜的环境温度,以此来提升根系区域的温度,促进西瓜健康生长。

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